光刻机,其实就是一种芯片的集成。机器的构造基本就是通过光刻机以一个光速发射光脉冲,激光器将光能转化为可检测的能量然后转化为电能。在不同波长光源的作用下,一个物质原子被分解成两个不同的原子,然后再重新组合起来形成物质。

光刻机的工作原理比较简单,原理为快速放大光源,使光源在几秒内所发射的光脉冲的波长大于被放大的材料原子光谱的截面周长。并且所有组合后光刻机(电脑)要有同等能量以完成光刻。根据原子结构的性质,光刻机会将其切割成一个个的一个一个的微粒。然后再放大,使光带到凹槽外将其刻到光滑的平面上。现在光刻的材料有很多,有很多就是用阳极树脂、玻璃及陶瓷等材料,可以在工作应力下发生形变。

我们就用到了：光蚀刻机，那么就是在一个强度很高的激光中，使树脂光敏体质变成几十微米的光固化线形状(光封堵)加深与不加深从来看不出区别，就是成的就是两个原子而已，我们用到的光刻机是ppt机，光照射一发白光，这光刻机就开始工作，先是激光器的旋转到一个多焦的带冷却性不干涉，然后切成一个个小平面，当发现要加深的部分能由一个晶体透镜，成像到投影到边缘时，就要利用凸透镜进行光刻。因为光有角度，所以该过程很快。当光走直线，投影就是一个平面。成的就是一个原子级别的图案。