当前位置: 放大机 >> 放大机介绍 >> 中国光刻机与美国芯片法案
历时3年的美国芯片法案,最近正式签署落地了,这会卡住中国半导体的脖子吗?我们为什么不自己制造芯片呢?
芯片身为大规模集成电路的核心设备,光刻机是制造芯片的核心装置,光刻机号称人类工业皇冠上的明珠,它不是印钞机,却比印钞机还金贵。那光刻机的工作原理是什么?
你可以理解为冲洗照片。但不同之处在于,日常冲洗照片是把小的底片放大,但光刻机是把大的照片缩小,就是把电路图缩印到晶圆相纸上。
为什么原理上并不难的机器门槛如此之高呢?关键在于精度,每个线条和深孔的加工精度,如同在人的头发丝直径的几千万分之一的面积上,进行有50~60层大楼的建设,所以芯片的质量完全取决于光刻机的技术。
目前全球90%的光刻机市场被荷兰的阿斯麦垄断,这家公司很年轻,成立于年。
但很多人可能不知道,我国光刻技术的起步并不晚,早在上世纪60年代中科院就开始研究光刻机了,并且在年就研制出第一款接触式国产光刻机,此时涉足这一制造工艺的国家全世界只有美国和中国。
到年,中国第一台分布投影式光刻机研制成功,此时与国际水平差距不超过7年。大家都以为中国光刻机的辉煌征途刚刚开始,谁也没料到在这之后开始走向落寞。为何会这样呢?
首先是经济比较落后。搞科研是需要很多资金的投入,但在80年代中国经济比较落后,当时连深圳特区成立都没有足够资金来支持,更别提还没成气候的光刻机。
很多搞光刻机研发的公司,因为没有了资金的支持,最后公司也倒闭破产。
其次是自主创新意识受到冲击。改革开放后,随着发达国家先进的技术、设备纷纷进入中国,“造不如买”的想法占据主流,也就是直接购买使用国外已经成熟的技术,应用到我们想要发展的产品上,要比自己去研发和制造效率高得多。
于是,各地政府大量引进国外的半导体设备和产线,一大批企业逐渐放弃了光刻机的科研攻关。
最后与国际制裁有关。早在年,以西方国家为主的30多个国家就签署了《瓦森纳协定》,在这个协定中,西方国家对中国半导体技术及光刻机等设备出口,一般都比最先进技术落后两代。加上审批过程的拖延,中国能拿到的设备技术会落后三代甚至更多。
基于以上三方面原因,我国光刻机研发和产业开始停滞不前。
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